二氧化鈦超高速研磨分散機
二氧化鈦研磨分散機，GMD2000二氧化鈦研磨分散機，龍蟒研磨分散機是是由電動機通過皮帶傳動帶動轉齒（或稱為轉子）與相配的定齒（或稱為定子）作相對的高速旋轉，被加工物料通過本身的重量或外部壓力（可由泵產生）加壓產生向下的螺旋沖擊力，透過膠體磨定、轉齒之間的間隙（間隙可調）時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，達到物料超細粉碎及乳化的效果。
二、打漿分散的目的
從煅燒崗位下來的二氧化鈦粉末，它的粒子狀態(tài)主要呈現四
種：原級粒子、聚集體、凝聚體和絮凝體，在后處理生產工藝中，分
散粗顆粒和包膜采用的都是濕法處理過程，在此過程中，二氧化鈦在
介質中的分散很重要，分散不良會使細微顆粒凝聚成粗顆粒，并會
造成包膜時顆粒表面涂膜不均，甚***有些顆粒涂膜不到，達不到包
膜作用。打漿分散的主要目的就是為后續(xù)工作提供充分分散的二
氧化鈦穩(wěn)定分散體。
三、打漿分散的影響因素
打漿分散的影響因素主要有：表面電荷、分散介質的表面張
力、PH值、漿料濃度、攪拌強度等。
二氧化鈦高速研磨分散機
細化作用一般來說要強于均質機，但它對物料的適應能力較強（如高粘度、大顆粒），所以在很多場合下，它用于均質機的前道或者用于高粘度的場合。
研磨式分散機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產品。
*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據以往的慣例，依據以前的經驗工作頭來滿足一個具體的應用。在大多數情況下，機器的構造是和具體應用相匹配的，因而它對制造出*終產品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。
GMD2000系列的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當物料經過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨。定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
研磨分散機是由膠體磨分散機組合而成的高科技產品。
***級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的轉子之間距離。在增強的流體湍流下。凹槽在每級口可以改變方向。
第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好的滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學征不一樣。狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。
以下為型號表供參考：
型號 | 標準流量 L/H | 輸出轉速 rpm | 標準線速度 m/s | 馬達功率 KW | 進口尺寸 | 出口尺寸 |
GMD2000/4 | 400 | 18000 | 44 | 4 | DN25 | DN15 |
GMD2000/5 | 1500 | 10500 | 44 | 11 | DN40 | DN32 |
GMD2000/10 | 4000 | 7200 | 44 | 22 | DN80 | DN65 |
GMD2000/20 | 10000 | 4900 | 44 | 45 | DN80 | DN65 |
GMD2000/30 | 20000 | 2850 | 44 | 90 | DN150 | DN125 |
GMD2000/50 | 60000 | 1100 | 44 | 160 | DN200 | DN150 |
二氧化鈦超高速研磨分散機
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