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  • GRS2000納米白炭黑管線式分散機(jī)
    納米白炭黑管線式分散機(jī)

    納米白炭黑管線式分散機(jī)透過膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力、高頻振動(dòng)等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果。

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  • GMD2000光刻膠去除劑高剪切分散機(jī)
    光刻膠去除劑高剪切分散機(jī)

    光刻膠去除劑高剪切分散機(jī)新的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),將膠體磨和分散機(jī)一體化的設(shè)備,膠體磨磨頭+分散盤定轉(zhuǎn)子,先研磨后分散效果更佳。

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  • GRS2000化學(xué)肥料高剪切乳化研磨分散機(jī)
    化學(xué)肥料高剪切乳化研磨分散機(jī)

    化學(xué)肥料高剪切乳化研磨分散機(jī)用德國(guó)博格曼雙端面機(jī)械密封,轉(zhuǎn)速高達(dá)14000rpm,配合高精密的磨頭,在保證冷卻水的情況可24小時(shí)連續(xù)生產(chǎn),研磨效果好,效率更高,化工行業(yè)尤其是精細(xì)化工領(lǐng)域更好的選擇。

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  • GMD2000藥用輔料硬脂酸鹽研磨分散機(jī)
    藥用輔料硬脂酸鹽研磨分散機(jī)

    藥用輔料硬脂酸鹽研磨分散機(jī)透過膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力、高頻振動(dòng)等物理作用,使物料被有效地乳化、均質(zhì)和粉碎,達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果。

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  • GRS2000磷酸氫鈣高剪切分散機(jī)
    磷酸氫鈣高剪切分散機(jī)

    磷酸氫鈣高剪切分散機(jī)采用*設(shè)計(jì),便于清洗,對(duì)表面進(jìn)行高質(zhì)量處理,防止其對(duì)食品醫(yī)藥產(chǎn)生不利影響,該設(shè)備還符合CIP和SIP的清潔標(biāo)準(zhǔn),能更好的實(shí)現(xiàn)在線清洗,提高工作效率,確保產(chǎn)品安全。

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  • GMD2000水性防腐劑高速分散機(jī)
    水性防腐劑高速分散機(jī)

    水性防腐劑高速分散機(jī)能在真空或壓力環(huán)境下,實(shí)現(xiàn)物料的分散、乳化、均質(zhì)、混合等工藝過程。

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  • GMD2000石墨烯潤(rùn)滑油高剪切分散機(jī)
    石墨烯潤(rùn)滑油高剪切分散機(jī)

    石墨烯潤(rùn)滑油高剪切分散機(jī)具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間距離。在增強(qiáng)的流體湍流下。凹槽在每級(jí)口可以改變方向。

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  • GMD2000橡膠抗氧劑高速乳化分散機(jī)
    橡膠抗氧劑高速乳化分散機(jī)

    橡膠抗氧劑高速乳化分散機(jī)機(jī)配合橡膠抗氧劑的生產(chǎn):將原始粒徑15-30nm的抗氧劑顆粒倒入一定配比的去離子水中,加入表面活性劑和組分A,攪拌10min至物料全部均勻無大的團(tuán)聚顆粒,將配好的液體倒入分散機(jī)中,打4-6遍,即可得到D50粒徑約300nm的均勻水性抗氧劑。

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